二氧化tai研磨分散機是針對二氧化tai粉體設計的專用設備，通過研磨腔高速剪切、沖擊與研磨介質作用，實現(xiàn)粉體解聚、細化與均勻分散。它能解決二氧化tai易團聚問題，提升其在涂料、塑料等領域的分散性與光學性能，具備處理效率高、粒徑可控的優(yōu)勢，滿足不同行業(yè)對二氧化tai分散質量的要求。

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二氧化tai研磨分散機

【SID工業(yè)設備用于二氧化tai分散和研磨的優(yōu)點】

一、縮短工藝時間。SID高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除結塊和團聚。SID也提供PLD和PLC粉體/液體混合機，將粉體直接加入液體，無需循環(huán)處理，一次性通過便可成型。

二、提高品質。SID高剪切混合機可以打碎結塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產品光澤和透明度，這兩個特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。SID磨機可以程度縮小粒徑，達到窄粒徑分布。SID分散研磨設備的流量比同類研磨設備高出很多，但也可達到相類似的效果。模塊化設計的SID 2000系列產品，可以幫助客戶節(jié)約資金投資。

二氧化tai研磨分散機

【SID研磨分散機的簡介】

GMD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

【SID研磨分散機的簡介】

二氧化tai研磨分散機

二氧化tai研磨分散機設備參數表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。

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