蒙脫shi混懸液均質(zhì)機(jī)

蒙脫shi混懸液由主藥蒙脫shi、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等效果xian著。其具有服用劑量準(zhǔn)確、服用攜帶方便、粒度較細(xì)、服用后可快速均質(zhì)到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點(diǎn)?；鞈乙旱闹苽湓瓌t首先是使粉粒潤(rùn)濕并在液體均質(zhì)介質(zhì)中均勻均質(zhì)，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防止結(jié)塊。

制備方法通?；鞈乙旱挠袃煞N：均質(zhì)法和凝聚法。由于蒙脫shi本身的性質(zhì)我們采用的是均質(zhì)法，混懸液中微粒的大小不僅關(guān)系到混懸液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，也會(huì)影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測(cè)定混懸液中微粒大小及其分布，是評(píng)定混懸液質(zhì)量的重要指。由于本研究的蒙脫shi采用的是法國(guó)益普生公司研制的商品名為思密達(dá)的蒙脫shi散劑，故其微粒大小符合要求，無(wú)需測(cè)其微粒大小。

當(dāng)蒙脫shi混懸液的工藝配方確定時(shí)，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過(guò)減小粒子的半徑來(lái)縮小沉降系數(shù)。蒙脫shi混懸液粒徑的細(xì)化，取決于均質(zhì)設(shè)備的選擇。如果采用SID研磨均質(zhì)機(jī)的話(huà)，不僅可以對(duì)蒙脫shi混懸液粒徑進(jìn)行細(xì)化，還可以將混懸液均質(zhì)的更均勻。這取決于太倉(cāng)希德研磨均質(zhì)機(jī)的特殊設(shè)計(jì)，SID研磨均質(zhì)機(jī)將膠體磨和均質(zhì)機(jī)合二為一，先研磨細(xì)化粒徑，再對(duì)物料進(jìn)行均質(zhì)，使蒙脫shi混懸液更加細(xì)膩、均勻、穩(wěn)定。

GMD2000系列研磨均質(zhì)設(shè)備是SID（太倉(cāng)）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨均質(zhì)乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料均質(zhì)乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）

GMD2000系列均質(zhì)機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式均質(zhì)機(jī)是由錐體磨,均質(zhì)機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
初級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。均質(zhì)頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

蒙脫shi混懸液均質(zhì)機(jī)的特點(diǎn)：

①   線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。