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納米級(jí)樹(shù)脂高速研磨分散機(jī)，GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨

在線式研磨機(jī)，采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，雙端面機(jī)械密封，在保證冷卻水的情況下可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)！

油性石墨漿料研磨設(shè)備是電子材料領(lǐng)域?qū)Ｓ迷O(shè)備，采用高速轉(zhuǎn)定子與研磨介質(zhì)協(xié)同作用。通過(guò)撞擊、剪切效應(yīng)破解石墨團(tuán)聚，將顆粒細(xì)化至亞微米級(jí)，確保分散均勻。設(shè)備密封性好、可連續(xù)運(yùn)行，適配油性體系，能保障漿料導(dǎo)電穩(wěn)定性，廣泛應(yīng)用于導(dǎo)電涂料、電池電極等生產(chǎn)場(chǎng)景。

滑shi粉濕法超細(xì)研磨機(jī)是非金屬礦加工核心設(shè)備，采用濕法研磨工藝與多級(jí)研磨結(jié)構(gòu)。通過(guò)介質(zhì)撞擊、剪切作用，將顆粒至微米甚至亞微米級(jí)，實(shí)現(xiàn)均勻粒徑分布。設(shè)備研磨效率高、能耗低，產(chǎn)品純度高、流動(dòng)性好，適配涂料、塑料、造紙等行業(yè)，滿足材料填充與改性需求。

超細(xì)高剪切研磨機(jī)是集高剪切與精細(xì)研磨于一體的高效設(shè)備，通過(guò)精密定轉(zhuǎn)子高速作用，將物料細(xì)化至亞微米 - 納米級(jí)，打破團(tuán)聚并提升均勻性。設(shè)備研磨精度高、效率突出，支持連續(xù)化生產(chǎn)，易清潔且運(yùn)行穩(wěn)定。廣泛適配化工、新材料、醫(yī)藥等領(lǐng)域，為超細(xì)粉體加工提供核心技術(shù)支撐。